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    上海半导体项目股权融资5亿

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    企业简介

    实验室氮化镓技术团队超过二十年研究基础和产 业化经验,专业从事氮化镓功率器件及模组的产品设 计、研发、制造、销售于一体的高新技术企业;项目是用于扩产生产品的完整成本最低1. 超薄外延技术:外延仅需不到1μm厚度,比同行节省80%以上厚度与成本;2. MOCVD核心专利:生长时间仅2小时,比同行节省50%以上时间;3. 外延生长技术:一致性、均匀性好,边缘无裂痕,可用面积大;4. 产线成本极低:比同行节省1倍以上成本。最薄最高:全国厚度最薄耐压最高,外延仅1μm,耐压高达8000V;2. 预留空间:产品预留耐压空间比同行高50%以上。耐;唯一技术核心能力:全球唯一的、领先的衬底剥离与键合技术。




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